化學領域答復OA過程中補充數據的認可程度問題

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來源：IPRdaily中文網（IPRdaily.cn）

作者：李佳  北京超凡志成知識產權代理事務所（普通合伙）

原標題：淺談關于化學領域答復OA過程中補充數據的認可程度問題

摘要： 在化學領域中，通過補充實驗數據的方式來進行答復OA的做法是比較常見的，筆者根據實際的工作經驗，通過案例介紹的方式對在撰寫以及后續(xù)答復OA過程中所遇到的問題進行了總結，并對個人的經驗進行分享，希望能為大家在答復OA以及撰寫申請文件時提供一些更為開闊的思路，幫助大家對相關涉及的法條有進一步的理解。

關鍵詞： 化學領域 OA答復 補充數據的認可

一、前言

化學領域的案件多屬于實驗科學的范疇，所以其非常注重實施例的設計、布局，并且往往需要利用檢測手段、實驗數據等多方面來證明方案所帶來的效果。那么既然實驗數據屬于化學領域中驗證發(fā)明效果的重要途徑，其在進行撰寫時如何設計實驗以及后續(xù)答復OA時補充數據的限度問題都是非常值得探討的，下面通過案例介紹的方式來闡明筆者對于實驗數據設計以及補充方面的觀點。

二、案例介紹

發(fā)明名稱：一種熔石英光學元件表面的處理方法

申請?zhí)枺?01803230188525.0

該申請公開的權利要求書獨立權利要求是這樣記載的：一種熔石英光學元件表面的處理方法，其特征在于，（A）對熔石英光學元件的表面進行反應離子刻蝕處理后，去離子水漂洗；（B）再采用HF-NH4F緩釋溶液對熔石英光學元件的表面進行刻蝕處理，去離子水漂洗，即可。

2018年03月28日下發(fā)了第一次審查意見，指出其與對比文件1（“反應等離子體修飾熔石英光學元件表面研究”，王峰等，光學學報，31卷5期）在處理方法上均是將反應離子刻蝕與酸刻蝕進行結合的方法，大同小異。

2016年4月18日，申請人對第一次審查意見進行了陳述，并將原權1的反應離子刻蝕的具體操作參數“射頻功率控制在100-300W之間，射頻偏壓控制在800-900V之間，刻蝕深度控制在1.5-4.5μm/h之間”補充到了原權1中，同時將去離子水漂洗等中間處理步驟的方案補充到了原權1中，陳述的觀點主要是對比文件1所采用的反應離子刻蝕的激發(fā)源、刻蝕氣體與本發(fā)明的激發(fā)源、刻蝕氣體并不同，從而導致整個反應離子刻蝕的操作過程、操作原理也是不同的，尤其在刻蝕方法如此不同的情況下，本發(fā)明刻蝕的效果要顯著優(yōu)于對比文件1的方法，尤其粗糙度可以保證低于1nm，但是對比文件1的粗糙度反而會增大。對于上述陳述的觀點審查員沒有認可，所以又下發(fā)了第二次審查意見。

2016年7月24日審查員下達第二次審查意見通知書，依然對本發(fā)明的創(chuàng)造性不予認可，主要觀點在于對比文件1同樣給予了反應等離子刻蝕后樣品表面可以更加光滑、平整的啟示，那么本領域技術人員可以根據實際需要對離子刻蝕的方法進行調整，為此申請人與審查員進行了電話溝通，對于本發(fā)明的方案與所產生的積極效果與審查員交換了意見，審查員鑒于本發(fā)明效果上的優(yōu)越性，同意通過補充實驗數據的方式來證明采用本發(fā)明的處理方法處理后的光學元件較對比文件1的光學元件其性能上的優(yōu)異性。

代理人通過與發(fā)明人進行溝通后，由發(fā)明人進行了具體的試驗操作，按照對比文件1的方案與本發(fā)明的方案分別對光學元件進行了試驗處理后，并對表面的粗糙度以及損傷閾值進行了測試比較，最后發(fā)現對比文件1處理后的元件表面粗糙度Rq由1.12 nm增加到1.53 nm，與對比文件1中的圖4、圖5和圖6的結果基本吻合，本發(fā)明處理后的光學元件表面的表面粗糙度Rq為0.64 nm，也未見明顯劃痕，更加說明了本發(fā)明該復合刻蝕工藝具備無痕去除元件表面缺陷的能力。

在上述案件的審理過程中，審查員雖然同意了采用補充實驗過程的方式來證明本發(fā)明的方案所能帶來的效果，但是具體補充數據的方式其實是值得進一步探討的，由于該案件與對比文件1在光學元件的處理方法以及處理后的性能參數都非常類似，而且都清楚的記載了處理過程，以達到了本領域技術人員可以直接依照申請文件中所記載的方法進行實踐的程度，所以這也就給采用補充實驗數據的方式來證明效果提供了可能性，而且在性能驗證方面，兩個方案均采用的是粗糙度、損傷閾值這兩個參數進行性能表征，正好表征參數上也比較吻合，這樣可以將對比文件1與本發(fā)明在效果上進行更為直接的對比，此外從對比文件1和本發(fā)明所記載的數據中，可以非常清楚的反應出本發(fā)明的粗糙度的數據更為優(yōu)異。

所以，上述情況均為后續(xù)補充實驗數據提供了一定的依據，因為假設本發(fā)明對于具體的粗糙度以及損傷閾值方面的數據絲毫沒有記載的情況下，那么依據本發(fā)明的方案處理后的光學元件的粗糙度，發(fā)明人想通過補充實驗數據的方式是否可行呢？筆者認為是超出了原申請文件的記載范圍的，尤其在與對比文件1的方案比較類似的情況下，在沒有具體數據記載的情況下如何證明其光學元件的粗糙度一定優(yōu)于對比文件1呢，所以如果本發(fā)明中只是記載了斷言式的效果，比如粗糙度低，但是具體的限度沒有具體量化的情況下，可能答復OA時依靠后續(xù)補充實驗數據的做法是很難行得通的，還是需要原申請文件中有具體的數值量化的實驗例，這樣在后續(xù)答復審查意見的過程中，一旦想通過補充實驗數據的方式來說服審查員，也更加行的通，而且也更加有理論支撐，審查員更容易信服。

其實，根據答復審查意見中補充實驗數據的情況對申請文件在撰寫時如何設計實驗例是有一定的指導意義的，也對撰寫申請文件時實驗方法設計以及實驗數據的記載方式提出了更高的要求，是可以進行進一步的探討的。

三、經驗總結

首先，在設計實驗例時應盡量避免采用主觀、斷言式的試驗驗證方式，因為這種實驗例在實際代理案件過程中發(fā)現其驗證效果的力度是非常薄弱的，不僅其效果本身審查員在主觀的可信度上會降低很多，也不利于試驗過程的重復性，因為人與人之間的主觀感受度的差別對試驗結果的影響非常大，這就導致試驗結果的準確性、反復重復性上都會受到比較大的影響。

其次，在設計實驗時盡量給出所采用的材料、試劑的來源，所采用的儀器的型號，實驗方法如果參照國標的方法可以直接給標準號，如果是自行設計的方法請給予詳細的試驗步驟，以便于后續(xù)本領域技術人員能夠依照文本中公開的內容準確實施其整個試驗過程，此外后續(xù)的試驗數據處理方面，最好發(fā)明人可以提供數據的顯著性差異的分析過程，以增加數據的可信度，這樣設計出的試驗由于完全采用客觀的方法，并給出了可信的試驗數據，其準確性、重復性都得到了保證，尤其是如果后續(xù)在答復審查意見時一旦需要采用補充數據的方式來證明本發(fā)明的效果時，可以直接按照本發(fā)明的試驗方法進行實施，不會存在重復不出來遭到審查員質疑的問題產生。

筆者通過日常實踐，發(fā)現最常見的補充實驗數據的方式就是將對比文件的產品采用本發(fā)明實驗的方法進行測試，與本發(fā)明的產品測試后的數據進行對比，這樣直接的對比是最為有利的效果證據，所以實驗過程的完整公開充分性是后續(xù)補充實驗數據的基礎，應當盡量的保證客觀完整，以使本領域技術人員可以直接實施的程度。

總之，以上列舉的案例以及論述的一些觀點能為大家在答復OA以及撰寫申請文件時提供一些更為開闊的思路，幫助大家對相關涉及的法條有進一步的理解。由于筆者水平有限，以上觀點難免有不當之處，希望能與大家進一步交流探討。

來源：IPRdaily中文網（IPRdaily.cn）

作者：李佳  北京超凡志成知識產權代理事務所（普通合伙）

編輯：IPRdaily趙珍          校對：IPRdaily縱橫君

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