美商務(wù)部工業(yè)和安全局?jǐn)M將26家中方實(shí)體移出UVL

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“據(jù)美國商務(wù)部工業(yè)與安全局官方網(wǎng)站，將26家中國實(shí)體移出UVL（未經(jīng)核實(shí)清單）清單?！?/strong>

圖源：USBIS

美國當(dāng)?shù)貢r間12月15日，據(jù)聯(lián)邦公報官網(wǎng)訊，美國《聯(lián)邦公報》計劃于當(dāng)?shù)貢r間16日發(fā)布一份由美國商務(wù)部工業(yè)和安全局（The Bureau of Industry and Security，BIS）擬定的UVL清單（Unverified list，未經(jīng)核實(shí)清單）。清單中包含的26家中國實(shí)體或?qū)腢VL中移除。

IPRdaily將持續(xù)關(guān)注美國BIS即將正式發(fā)布的UVL。

擬定的26家中方實(shí)體包括：

1. Beijing Naura Magnetoelectric Technology Co., Ltd.;

2. CCIC Southern Electronic Product Testing Co., Ltd.;

3. Center for High Pressure Science and Technology Advanced Research; 

4. Changchun National Extreme Precision Optics Co., Ltd.;

5. Chinese Academy of Geological Sciences, Institute of Mineral Resources;

6. Chinese Academy of Science (CAS) Institute of Chemistry;

7. Dongguan Durun Optical Technology Co., Ltd.;

8. Foshan Huaguo Optical Co., Ltd.;

9. Guangdong University of Technology;

10. Guangxi Intai Technology Co., Ltd.;

11. Guangxi Yuchai Machinery Co., Ltd.;

12. Guangzhou Hymson Laser Technology Co., Ltd.;

13. Heshan Deren Electronic Technology Co., Ltd.;

14. Hubei Longchang Optical Co., Ltd.;

15. Hubei Sinophorus Electronic Materials Co., Ltd.;

16. Kunshan Heng Rui Cheng Industrial Technology;

17. Shanghai Fansheng Optoelectronic Science & Technology Co. Ltd.;

18. Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd.;

19. ShanghaiTech University;

20. Southern University of Science and Technology, Department of Mechanical and Energy Engineering;

21. University of Chinese Academy of Sciences, School of Chemical Sciences;

22. University of Shanghai for Science and Technology;

23. Vital Advanced Materials Co., Ltd.;

24. Wuhan Juhere Photonic Tech Co., Ltd.;

25. Wuxi Biologics (Shanghai) Co., Ltd.;

26. Zhongshan Thincloud Optics Co., Ltd.;

（原標(biāo)題：美商務(wù)部工業(yè)和安全局?jǐn)M將26家中方實(shí)體移出UVL）

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來源：IPtoday綜合USBIS

編譯：IP Today-何舒敏

編輯：IPRdaily趙甄          校對：IPRdaily縱橫君

注：原文鏈接：美商務(wù)部工業(yè)和安全局?jǐn)M將26家中方實(shí)體移出UVL（點(diǎn)擊標(biāo)題查看原文）

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