專利規(guī)避設計要點探討

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“本文探討專利規(guī)避設計需要考慮的那些要點問題?！?br/>

來源：IPRdaily中文網（iprdaily.cn）
作者：王紅

專利規(guī)避設計是一種在法律允許的范圍內，通過重新設計產品或技術方案，避免侵犯他人專利權的策略。在當今世界知識產權保護宣傳和普及日益加強，和我國人民知識產權保護意識不斷增強的背景下，維權與被維權事件不斷出現(xiàn)，那么，專利規(guī)避設計對于企業(yè)避免侵權風險、保護自身利益就顯得更加迫切和重要了，其對于企業(yè)產品和技術方案的研發(fā)具有重要意義。以下將探討專利規(guī)避設計需要考慮哪些要點問題。

PART01
理解專利侵權的基本原則

專利侵權判定主要遵循兩個原則：全面覆蓋原則和等同原則。全面覆蓋原則要求侵權產品或方法必須包含專利權利要求中的所有技術特征。等同原則則是指，即使侵權產品或方法的技術特征與專利描述不完全相同，但如果本領域技術人員認為兩者實質上是等同的，也可能構成侵權，所謂的實質上等同是指用基本相同的手段，實現(xiàn)基本相同的功能，達到基本相同的效果。等同原則相較于全面覆蓋原則對于專利侵權的判定的復雜程度就更勝一籌。

PART02
分析專利權利要求

專利權利要求書定義了專利保護的范圍。進行規(guī)避設計前，必須詳細分析權利要求書中的每一項技術特征，識別出必要技術特征和非必要技術特征，以及它們之間的關系，必要技術特征的識別對于我們進行專利規(guī)避設計是非常重要也是非常必要的。

PART03
專利規(guī)避設計的心法

專利規(guī)避設計的“心法”包括三個維度：一是簡單地找不同，設計出與現(xiàn)有技術方案不同的技術方案；二是同質替換，在不損害產品質量和用戶體驗的前提下，擺脫字義和等同侵權的權利范圍；三是不追求不同，直接切入提高產品質量本身。

PART04
專利規(guī)避設計最簡單的技法

專利規(guī)避設計的技法主要有兩種：一是巧借漏洞，減少非必要特征的同時，加入改進的技術特征；二是新瓶裝舊酒，利用專利權過期的專利進行規(guī)避設計。

PART05
專利規(guī)避設計之地域性和時間性局限

專利權具有地域性和時間性局限。一項專利只在申請并被授予專利權的國家或地區(qū)有效，且發(fā)明專利的保護期限通常為20年，實用新型專利為10年、外觀設計為15年。利用這些局限，可以規(guī)避某些專利的約束。

PART06
確定專利規(guī)避設計的目標

在開始專利規(guī)避設計前，需要明確目標專利，即企業(yè)產品最可能侵犯的專利，并確定其實際保護范圍，也就是說要有明確的對標專利，詳細閱讀理解專利文件（包括權利要求書、說明書及附圖）的內容。拆分技術方案，并了解所拆分的每個技術特征的目的和效果，以應對專利等同侵權的規(guī)避設計。

PART07
提出替代技術方案

1、基于對目標專利的分析，提出多種替代技術方案。這些方案應該能夠實現(xiàn)相同或相似的功能，但避免使用目標專利的技術特征。

2、對提出的替代技術方案進行評價，考慮其技術可行性、成本效益、市場接受度等因素。

3、在確定優(yōu)選的規(guī)避設計方案后，需要進行法律風險評估，確認規(guī)避設計方案不會侵犯其他權利。

4、替代技術方案應具有一定的創(chuàng)新性，這樣才能在市場上形成競爭優(yōu)勢，甚至可能因此獲得自身的專利保護。

5、跨領域技術融合：考慮將不同領域的技術融合到替代方案中，可能會產生意想不到的創(chuàng)新效果。

6、合作研發(fā)：與其他企業(yè)或研究機構合作，共同開發(fā)替代技術方案，可以加快研發(fā)進程并分散風險。

7、持續(xù)監(jiān)控：在替代方案的研發(fā)過程中，持續(xù)監(jiān)控相關領域的專利動態(tài)，以便及時調整規(guī)避策略。

PART08
專利無效分析

如果沒有適當?shù)囊?guī)避方案，可以對目標專利進行進一步無效分析，探索其潛在的缺陷，以期通過專利無效程序消除其對企業(yè)產品的威脅。

PART09
專利申請

對規(guī)避設計后的新技術方案，應盡快申請專利保護，以形成對企業(yè)產品更為完整的保護體系。

結論

專利規(guī)避設計是企業(yè)在激烈的市場競爭中保護自己、避免侵權風險的有效手段。它要求企業(yè)深入了解專利法律、技術分析和市場趨勢，制定出切實可行的規(guī)避策略。同時，企業(yè)還需要密切關注專利法律的變化，及時調整自己的規(guī)避設計策略，以應對不斷變化的市場環(huán)境。

（原標題：專利規(guī)避設計要點探討）

來源：IPRdaily中文網（iprdaily.cn）

作者：王紅

編輯：IPRdaily辛夷          校對：IPRdaily縱橫君

注：原文鏈接：專利規(guī)避設計要點探討（點擊標題查看原文）

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