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專利規(guī)避設(shè)計要點探討

專利
納暮8個月前
專利規(guī)避設(shè)計要點探討

#本文僅代表作者觀點,不代表IPRdaily立場,未經(jīng)作者許可,禁止轉(zhuǎn)載#


“本文探討專利規(guī)避設(shè)計需要考慮的那些要點問題。”


來源:IPRdaily中文網(wǎng)(iprdaily.cn)
作者:王紅


專利規(guī)避設(shè)計要點探討


專利規(guī)避設(shè)計是一種在法律允許的范圍內(nèi),通過重新設(shè)計產(chǎn)品或技術(shù)方案,避免侵犯他人專利權(quán)的策略。在當今世界知識產(chǎn)權(quán)保護宣傳和普及日益加強,和我國人民知識產(chǎn)權(quán)保護意識不斷增強的背景下,維權(quán)與被維權(quán)事件不斷出現(xiàn),那么,專利規(guī)避設(shè)計對于企業(yè)避免侵權(quán)風險、保護自身利益就顯得更加迫切和重要了,其對于企業(yè)產(chǎn)品和技術(shù)方案的研發(fā)具有重要意義。以下將探討專利規(guī)避設(shè)計需要考慮哪些要點問題。


PART01
理解專利侵權(quán)的基本原則


專利侵權(quán)判定主要遵循兩個原則:全面覆蓋原則和等同原則。全面覆蓋原則要求侵權(quán)產(chǎn)品或方法必須包含專利權(quán)利要求中的所有技術(shù)特征。等同原則則是指,即使侵權(quán)產(chǎn)品或方法的技術(shù)特征與專利描述不完全相同,但如果本領(lǐng)域技術(shù)人員認為兩者實質(zhì)上是等同的,也可能構(gòu)成侵權(quán),所謂的實質(zhì)上等同是指用基本相同的手段,實現(xiàn)基本相同的功能,達到基本相同的效果。等同原則相較于全面覆蓋原則對于專利侵權(quán)的判定的復雜程度就更勝一籌。


PART02
分析專利權(quán)利要求


專利權(quán)利要求書定義了專利保護的范圍。進行規(guī)避設(shè)計前,必須詳細分析權(quán)利要求書中的每一項技術(shù)特征,識別出必要技術(shù)特征和非必要技術(shù)特征,以及它們之間的關(guān)系,必要技術(shù)特征的識別對于我們進行專利規(guī)避設(shè)計是非常重要也是非常必要的。


PART03
專利規(guī)避設(shè)計的心法


專利規(guī)避設(shè)計的“心法”包括三個維度:一是簡單地找不同,設(shè)計出與現(xiàn)有技術(shù)方案不同的技術(shù)方案;二是同質(zhì)替換,在不損害產(chǎn)品質(zhì)量和用戶體驗的前提下,擺脫字義和等同侵權(quán)的權(quán)利范圍;三是不追求不同,直接切入提高產(chǎn)品質(zhì)量本身。


PART04
專利規(guī)避設(shè)計最簡單的技法


專利規(guī)避設(shè)計的技法主要有兩種:一是巧借漏洞,減少非必要特征的同時,加入改進的技術(shù)特征;二是新瓶裝舊酒,利用專利權(quán)過期的專利進行規(guī)避設(shè)計。


PART05
專利規(guī)避設(shè)計之地域性和時間性局限


專利權(quán)具有地域性和時間性局限。一項專利只在申請并被授予專利權(quán)的國家或地區(qū)有效,且發(fā)明專利的保護期限通常為20年,實用新型專利為10年、外觀設(shè)計為15年。利用這些局限,可以規(guī)避某些專利的約束。


PART06
確定專利規(guī)避設(shè)計的目標


在開始專利規(guī)避設(shè)計前,需要明確目標專利,即企業(yè)產(chǎn)品最可能侵犯的專利,并確定其實際保護范圍,也就是說要有明確的對標專利,詳細閱讀理解專利文件(包括權(quán)利要求書、說明書及附圖)的內(nèi)容。拆分技術(shù)方案,并了解所拆分的每個技術(shù)特征的目的和效果,以應(yīng)對專利等同侵權(quán)的規(guī)避設(shè)計。


PART07
提出替代技術(shù)方案


1、基于對目標專利的分析,提出多種替代技術(shù)方案。這些方案應(yīng)該能夠?qū)崿F(xiàn)相同或相似的功能,但避免使用目標專利的技術(shù)特征。

2、對提出的替代技術(shù)方案進行評價,考慮其技術(shù)可行性、成本效益、市場接受度等因素。

3、在確定優(yōu)選的規(guī)避設(shè)計方案后,需要進行法律風險評估,確認規(guī)避設(shè)計方案不會侵犯其他權(quán)利。

4、替代技術(shù)方案應(yīng)具有一定的創(chuàng)新性,這樣才能在市場上形成競爭優(yōu)勢,甚至可能因此獲得自身的專利保護。

5、跨領(lǐng)域技術(shù)融合:考慮將不同領(lǐng)域的技術(shù)融合到替代方案中,可能會產(chǎn)生意想不到的創(chuàng)新效果。

6、合作研發(fā):與其他企業(yè)或研究機構(gòu)合作,共同開發(fā)替代技術(shù)方案,可以加快研發(fā)進程并分散風險。

7、持續(xù)監(jiān)控:在替代方案的研發(fā)過程中,持續(xù)監(jiān)控相關(guān)領(lǐng)域的專利動態(tài),以便及時調(diào)整規(guī)避策略。


PART08
專利無效分析


如果沒有適當?shù)囊?guī)避方案,可以對目標專利進行進一步無效分析,探索其潛在的缺陷,以期通過專利無效程序消除其對企業(yè)產(chǎn)品的威脅。


PART09
專利申請


對規(guī)避設(shè)計后的新技術(shù)方案,應(yīng)盡快申請專利保護,以形成對企業(yè)產(chǎn)品更為完整的保護體系。


結(jié)論


專利規(guī)避設(shè)計是企業(yè)在激烈的市場競爭中保護自己、避免侵權(quán)風險的有效手段。它要求企業(yè)深入了解專利法律、技術(shù)分析和市場趨勢,制定出切實可行的規(guī)避策略。同時,企業(yè)還需要密切關(guān)注專利法律的變化,及時調(diào)整自己的規(guī)避設(shè)計策略,以應(yīng)對不斷變化的市場環(huán)境。


(原標題:專利規(guī)避設(shè)計要點探討)


來源:IPRdaily中文網(wǎng)(iprdaily.cn)

作者:王紅

編輯:IPRdaily辛夷          校對:IPRdaily縱橫君


注:原文鏈接專利規(guī)避設(shè)計要點探討點擊標題查看原文)


專利規(guī)避設(shè)計要點探討

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