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如何進行集成電路布圖設計的維權?

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灣區(qū)知識產(chǎn)權5年前
如何進行集成電路布圖設計的維權?

如何進行集成電路布圖設計的維權?

#本文僅代表作者觀點,未經(jīng)作者許可,禁止轉載,不代表IPRdaily立場#


來源:IPRdaily中文網(wǎng)(iprdaily.cn)

作者:潘煒

原標題:如何進行集成電路布圖設計的維權


判斷某產(chǎn)品是否構成布圖設計侵權,可先確定該產(chǎn)品的集成電路包含的布圖設計是否與權利人的布圖設計相同或部分相同,再對相同部分是否具有獨創(chuàng)性進行認定,如相同部分具有獨創(chuàng)性,則構成侵權。這兩者的順序并沒有嚴格的限定,可根據(jù)實際情況進行調整。布圖設計專有權并不只是保護整體電路設計,經(jīng)登記的布圖設計中任何具有獨創(chuàng)性的部分都在保護范圍內。


集成電路布圖設計是指集成電路中至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路的三維配置,或者為制造集成電路而準備的上述三維配置【1】。集成電路布圖設計專有權是對具有獨創(chuàng)性的集成電路布圖設計進行保護的一種知識產(chǎn)權,它與專利權、商業(yè)秘密、商標權、著作權等一樣,屬于知識產(chǎn)權的一個分支。


集成電路布圖設計專有權經(jīng)國家知識產(chǎn)權局登記產(chǎn)生,與專利權不同,布圖設計專有權是自申請日生效,保護期為10年,自布圖設計登記申請之日或者在世界任何地方首次投入商業(yè)利用之日起計算,以較前日期為準。申請人登記申請時需提交布圖設計的復制件或者圖樣,如果布圖設計已投入商業(yè)利用的,還需提交含有該布圖設計的集成電路樣品。


需要注意的是,盡管規(guī)定了這兩種布圖設計專有權的載體,但并非權利人可任意擇一作為確定保護范圍的依據(jù),復制件或圖樣法律地位高于樣品,沒有在其中體現(xiàn)的圖樣或者圖層等布圖設計信息,不應作為布圖設計請求保護的內容,在基于客觀原因復制件或圖樣中存在某些無法識別的布圖設計細節(jié),可以參考樣品進行確定。


在昂寶電子訴智浦芯聯(lián)案中,由于復制件不符合要求,昂寶電子主張以申請時提交的芯片樣片作為請求保護的載體,歷經(jīng)一審、二審,乃至最高法的再審均被駁回。


最高法在裁定書中提到:“在提交復制件或圖樣的問題上,無論布圖設計是否投入商業(yè)使用均要求相同,(法律法規(guī))沒有作出區(qū)別對待。由此,如果人民法院在相關訴訟程序中忽略復制件或圖樣的法律地位,直接依據(jù)樣品確定布圖設計保護內容,極有可能引發(fā)輕視復制件或圖樣法律地位的錯誤傾向,使現(xiàn)行法律關于申請資料的相關要求無法落實,引發(fā)登記行為失范,產(chǎn)生不良導向作用?!?span style="color: rgb(0, 112, 192);">【2】


取得布圖設計專有權需要兩個條件:一是具有獨創(chuàng)性,即該布圖設計是創(chuàng)作者自己的智力勞動成果;二是在申請人創(chuàng)作時該布圖設計在布圖設計創(chuàng)作者和集成電路制造者中不是公認的常規(guī)設計。從這里可以看出布圖設計取得權利的創(chuàng)新性門檻要低于專利權。


經(jīng)登記后,布圖設計權利人享有的專有權包括對受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創(chuàng)性的部分進行復制,以及將受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品投入商業(yè)利用。也就是說,未經(jīng)權利人許可的上述行為構成侵犯布圖設計專有權。他人即使是通過反向工程獲取權利人的布圖設計后進行復制也構成侵權,這點與侵害技術秘密的情形有所不同,反向工程可作為后者的合法抗辯。


與專利權等知識產(chǎn)權類似,布圖設計專有權也適用權利用盡原則,即布圖設計權利人或者經(jīng)其許可投放市場后,他人再次商業(yè)利用的,不再需要得到權利人的許可或者授權,且不構成侵權。


判斷某產(chǎn)品是否構成布圖設計侵權,可先確定該產(chǎn)品的集成電路包含的布圖設計是否與權利人的布圖設計相同或部分相同,再對相同部分是否具有獨創(chuàng)性進行認定,如相同部分具有獨創(chuàng)性,則構成侵權。這兩者的順序并沒有嚴格的限定,可根據(jù)實際情況進行調整。在南京通華芯微電子與西安民展通訊科技等公司的布圖設計糾紛案中【3】,法院先判斷雙方的布圖設計是否相同,再判斷相同部分是否具有獨創(chuàng)性,在無錫新硅微電子與南京日新科技布圖設計糾紛案件中,國家知識產(chǎn)權局則采用不同順序【4】。


對于是否相同的認定,在僅有涉嫌侵權芯片且當事人未提供相應布圖設計的情況下,可以通過反向工程對該芯片反向提取其版圖,然后與權利人的布圖設計進行對比,判斷是否相同或實質相同。


獨創(chuàng)性的認定需要證明該布圖設計不是公認的常規(guī)設計,這類消極事實一般來說難以直接證明。由于該布圖設計已經(jīng)獲得國家知識產(chǎn)權局審查通過,因此在對方當事人未能提供確鑿反證的條件下,可認為該布圖設計符合授予專有權的條件,即符合獨創(chuàng)性要求。


需要注意的是布圖設計專有權并不只是保護整體電路設計,經(jīng)登記的布圖設計中任何具有獨創(chuàng)性的部分都在保護范圍內。例如在鉅泉光電訴上海雅創(chuàng)等侵害集成電路布圖設計專有權糾紛案中,法院認為:“‘條例’并未將那些基本電路或者起輔助性功能的布圖設計排除在受保護的布圖設計之外,這些布圖設計如果具有獨創(chuàng)性,且不屬于公認的常規(guī)設計,同樣應受到保護?!紙D設計中任何具有獨創(chuàng)性的部分的相同或者實質性相似與整個布圖設計的相同或者實質性相似是兩個不同的判定標準。只有在判定被控侵權行為是否屬于復制布圖設計的全部的情況下,才需要對整個芯片的布圖設計是否相同或者實質性相似進行判斷,從而才可能涉及到銳能微公司所主張的兩項集成電路布圖設計整體相似度的問題?!?span style="color: rgb(0, 112, 192);">【5】


權利人的布圖設計被侵權后,可以要求侵權方立即停止侵權行為,并承擔賠償責任。賠償數(shù)額為侵權人所獲得的利益或者被侵權人所受到的損失,包括被侵權人為制止侵權行為所支付的合理開支。侵權人的獲利并非當然全額用于賠償,需要根據(jù)比例原則來確定,比如考慮權利人的布圖設計在侵權芯片中的功能和作用等因素。權利人的研發(fā)投入一般不作為損失計算,布圖設計被他人侵權并不必然導致布圖設計專有權的喪失,這一點與商業(yè)秘密被公開披露導致永久性喪失權利不同。


法規(guī)中明確了一種不視為侵權的情形,即他人在獲得含有受保護的布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品時,不知道也沒有合理理由應當知道其中含有非法復制的布圖設計,而將其投入商業(yè)利用的場景。他人“應當知道”的舉證責任一般由權利人承擔,如果銷售方與直接侵權方具有密切的關聯(lián)關系則可認為其“應當知道”。例如,南京通華芯微電子訴西安民展通訊科技、成都啟達科技等侵犯布圖設計專有權糾紛案中,法院認為民展通訊公司與啟達公司總經(jīng)理均為朱樟明,其還持有民展通訊公司30%股份,負責兩公司的生產(chǎn)、經(jīng)營,故朱樟明對啟達公司生產(chǎn)被訴侵權芯片及民展通訊公司銷售被訴侵權芯片的事實是應知或明知的。因此認定民展通訊不是普通銷售者,其與啟達公司在制造、銷售被訴侵權芯片上存在分工、合作關系,構成共同侵權,應當連帶賠償損失【3】。


此外,不知情而將侵權產(chǎn)品投入商業(yè)利用的當事人,在得到產(chǎn)品中含有非法復制的布圖設計的明確通知后,可以繼續(xù)將現(xiàn)有的存貨或者此前的訂貨投入商業(yè)利用,但應當向布圖設計權利人支付合理的報酬。


除了司法途徑,權利人被侵權時也可以選擇行政途徑獲得救濟,即向國家知識產(chǎn)權局舉報侵權行為,國家知識產(chǎn)權局受理布圖設計侵權舉報的條件之一是當事人任何一方均未就該侵權糾紛向人民法院起訴。國家知識產(chǎn)權局受理侵權案件后,如果經(jīng)審理認定侵權行為成立的,可以責令侵權人立即停止侵權行為,沒收、銷毀侵權產(chǎn)品或者物品,但對于賠償數(shù)額只能進行調解,沒有決定的權力,雙方當事人對賠償數(shù)額如有分歧還是需要通過訴訟解決。

 


 參考資料:

【1】 《集成電路布圖設計保護條例》,2001年10月1日期實施。

【2】 南京智浦芯聯(lián)電子科技有限公司、深圳市梓坤嘉科技有限公司、深圳市芯聯(lián)半導體有限公司與昂寶電子(上海)有限公司侵害集成電路布圖設計專有權糾紛申請再審民事裁定書,(2015)民申字第745號,最高人民法院。

【3】 南京通華芯微電子有限公司與西安民展通訊科技有限公司、成都啟達科技有限公司等侵害集成電路布圖設計專有權糾紛二審判決書,(2015)蘇知民終字第00114號,江蘇省高級人民法院。

【4】 無錫新硅微電子有限公司與南京日新科技有限公司集成電路布圖設計糾紛行政處罰決定書,集侵字[2017]001號,國家知識產(chǎn)權局集成電路布圖設計行政執(zhí)法委員會。

【5】 鉅泉光電科技(上海)股份有限公司訴上海雅創(chuàng)電子零件有限公司等侵害集成電路布圖設計專有權糾紛,(2014)滬高民三(知)終字第12號,上海市高級人民法院。


來源:IPRdaily中文網(wǎng)(iprdaily.cn)

作者:潘煒

編輯:IPRdaily王穎          校對:IPRdaily縱橫君


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